真空镀膜厂家、锦城镀膜(已认证)、真空镀膜

但塑料材料大多存在表面硬度不高、外观不够华丽、耐磨性低等缺陷，如在塑料表面蒸镀一层极薄的金属薄膜，即可赋予塑料程亮的金属外观，合适的金属源还可大大增加材料表面耐磨性能 真空镀膜加工厂，大大拓宽了塑料的装饰性和应用范围。 真空镀膜的功能是多方面的，这也决定了其应用场合非常丰富。
对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。 蒸发源有三种类型。①电阻加热源：用难熔金属如钨、钽制成舟箔或丝状 真空镀膜厂，通以电流，加热在它上方的或置于坩埚中的蒸发物质（图1[蒸发镀膜设备示意图]）电阻加热源主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。②高频感应加热源：用高频感应电流加热坩埚和蒸发物质。③电子束加热源：适用于蒸发温度较高（不低于2000[618-1]）的材料，即用电子束轰击材料使其蒸发。

一般来说，利用溅镀制程进行薄膜披覆有几项特点： (1)金属、合金或绝缘物均可做成薄膜材料。 (2)再适当的设定条件下可将多元复杂的靶材制作出同一组成的薄膜。 (3)利用放电气氛中加入氧或其它的活性气体 真空镀膜，可以制作靶材物质与气体分子的混合物或化合物。 (4)靶材输入电流及溅射时间可以控制，容易得到高精度的膜厚。 (5)较其它制程利于生产大面积的均一薄膜。 (6)溅射粒子几不受重力影响，靶材与基板位置可自由安排。 (7)基板与膜的附着强度是一般蒸镀膜的10倍以上，且由于溅射粒子带有高能量，在成膜面会继续表面扩散而得到硬且致密的薄膜，同时此高能量使基板只要较低的温度即可得到结晶膜。 (8)薄膜形成初期成核密度高，可生产10nm以下的极薄连续膜。 (9)靶材的寿命长，可长时间自动化连续生产。 (10)靶材可制作成各种形状，配合机台的特殊设计做更好的控制及**有效率的生产。水镀的镀层厚度比真空镀厚，耐磨性也比真镀好
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