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总体来说 真空镀膜，真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件表面高度金属光泽和镜面效果，在薄膜材料上使膜层具有出色的阻隔性能，提供优异的电磁屏蔽和导电效果。 二、蒸发类 通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法**早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。 蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。

主要利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面， 靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。 一、溅镀薄膜的性质、 1、均匀度都比蒸镀薄膜来的好， 2、但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁 铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的氩气离子化， 造成靶与氩气离子间的撞击机率增加 真空镀膜加工厂， 提高溅镀速率。 一般金属镀膜大都采用直流溅镀， 而不导电的陶磁 三、材料则使用 RF交流溅镀， 基本的原理是在真空中利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面，电浆中的阳离子会加速冲向作为被溅镀材的负电极表面，这个冲击将使靶材的物质飞出而沉积在基板上形成薄膜。
一、 电镀一般可分为以下几种： 1.蒸镀：表面附着； 2.溅镀：表面交换； 3.水镀：分子结合。 二、蒸镀和溅镀都是采用在真空条件下， 通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜 真空镀膜加工，通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层，同时具有速度快附着力好的突出优点。 真空蒸镀法是在高真空下为金属加热，使其熔融、蒸发，冷却后在样品表面形成金属薄膜的方法。蒸镀用金属为金等。 三想知道下这几种不同的电镀方法在导电性能方面的区别是什么 一般的电镀，就是指水镀，水镀是导电的 顺德真空镀膜，真空镀现在有不连续镀膜可以不导电 表面附着力及耐磨性能怎么样呢？ 1、因為電鍍一般是用作表面 (外觀面)， 2、濺鍍主要是做內表面 (防EMI，也有為小鍵做表面處理的，像一些按鍵) 3、相對而言水電鍍的膜厚比較厚一點大約在 0.01-0.02MM左右 4、真空濺鍍的膜厚在0.005MM左右 電鍍的耐磨性和附著力都相對好一些
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